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Hochreiner Aluminiumoxid-Keramikring für CVD-/PVD-Prozesskammern

Hochreiner Aluminiumoxid-Keramikring für CVD-/PVD-Prozesskammern

Kurzbeschreibung:

Der Keramikring von St.Cera wurde speziell für den Einsatz in CVD- (Chemical Vapor Deposition) und PVD-Prozesskammern (Physical Vapor Deposition) entwickelt. Gefertigt aus hochreinem Aluminiumoxid (Al₂O₃) mit einem Reinheitsgrad von 99,8 %, dient dieser Ring als Kammerauskleidung, Fokussierring oder Komponente eines Prozesskits, um Plasma einzuschließen und die Kammerwände vor Erosion zu schützen. Das Material bietet eine ausgezeichnete Plasmabeständigkeit, eine hohe Durchschlagsfestigkeit (15 × 10⁶ V/m) und thermische Stabilität bis 1600 °C und gewährleistet so eine lange Lebensdauer in aggressiven, fluorbasierten Plasmaumgebungen. Präzise Maßtoleranzen (±0,05 mm Innen-/Außendurchmesser) und eine hohe Planheit (≤10 μm) ermöglichen eine gleichmäßige Positionierung der Waferkanten, verbessern die Gleichmäßigkeit der Abscheidung und reduzieren die Partikelbildung.


Produktdetails

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Der Keramikring von St.Cera wurde speziell für den Einsatz in CVD- (Chemical Vapor Deposition) und PVD-Prozesskammern (Physical Vapor Deposition) entwickelt. Gefertigt aus hochreinem Aluminiumoxid (Al₂O₃) mit einem Reinheitsgrad von 99,8 %, dient dieser Ring als Kammerauskleidung, Fokussierring oder Komponente eines Prozesskits, um Plasma einzuschließen und die Kammerwände vor Erosion zu schützen. Das Material bietet eine ausgezeichnete Plasmabeständigkeit, eine hohe Durchschlagsfestigkeit (15 × 10⁶ V/m) und thermische Stabilität bis 1600 °C und gewährleistet so eine lange Lebensdauer in aggressiven, fluorbasierten Plasmaumgebungen. Präzise Maßtoleranzen (±0,05 mm Innen-/Außendurchmesser) und eine hohe Planheit (≤10 μm) ermöglichen eine gleichmäßige Positionierung der Waferkanten, verbessern die Gleichmäßigkeit der Abscheidung und reduzieren die Partikelbildung.

 

Spezifikationen (basierend auf 99,8 % Al₂O₃):

Eigentum Wert
Material 99,8 % Aluminiumoxid (Elfenbein)
Dichte 3,93 g/cm³
Wasseraufnahme 0%
Biegefestigkeit 361 MPa
Bruchzähigkeit 3–4 MPa·m¹/²
Vickers-Härte 16 GPa
Elastizitätsmodul 380 GPa
Wärmeleitfähigkeit 32 W/m·k
Wärmeausdehnung (25–1000°C) 7,2×10⁻⁶/℃
Durchschlagsfestigkeit 15×10⁶ V/m
Spezifischer Widerstand >10¹⁴ Ω·cm
Maximale Betriebstemperatur 1600 °C

 

Anwendungsbereiche:

  • • CVD-Kammer-Fokusringe und Randringe
  • • PVD-Kammerabschirmungsringe und Klemmringe
  • • Ätzkammerauskleidungen und Abdeckringe
  • • Plasmaeinschlussringe in dielektrischen Ätzsystemen

 

Herstellungsprozess:

Isostatisches Pressen → Grünbearbeitung → Sintern bei 1600 °C → CNC-Innen-/Außenschleifen → Oberflächenläppen → Ultraschallreinigung → 100 % CMM-Prüfung. Die ultra-glatte Oberfläche (Ra ≤ 0,4 μm) minimiert die Partikelanhaftung.

 

Qualitätskontrolle:

  • • 100% Maßprüfung (Innendurchmesser, Außendurchmesser, Dicke, Ebenheit)
  • • Eindringprüfung mit Farbstoff auf Oberflächenmikrorisse
  • • Prüfung der Durchschlagsfestigkeit gemäß ASTM D149
  • • Unter 20-facher Vergrößerung keine sichtbaren Verfärbungen oder Porosität.

 

Vorteile gegenüber Ringen aus Metall oder Quarz:

  • • 5–10-mal längere Lebensdauer als Aluminiumringe in Fluorplasma
  • • Keine Metallverunreinigung in Dünnschichten
  • • Höhere Plasmabeständigkeit als Quarz (keine Erosionsgruben)
  • • Gewährleistet auch nach längerem Gebrauch eine elektrische Isolation von >10¹⁴ Ω·cm

 

Alternativmaterial – Siliziumnitrid (SiN):

Für Anwendungen, die eine noch höhere Bruchzähigkeit (6,2 MPa·m¹/²) und eine bessere Temperaturwechselbeständigkeit (Ausdehnungskoeffizient 3,2 × 10⁻⁶/℃) erfordern, sind Si₃N₄-Ringe erhältlich. Aluminiumoxid ist jedoch für die meisten CVD/PVD-Anwendungen kostengünstiger. Bitte geben Sie bei der Bestellung Ihre Materialpräferenz an.

 

Anpassung:

  • • Durchgangslöcher, Stufenprofile oder Senkbohrungen zur Montage
  • • Y₂O₃-beschichtete Oberfläche für erhöhte Plasmabeständigkeit (optional)
  • • Lasergravur der Teilenummer / Chargennummer

 

Notiz:Die obigen Daten entsprechen exakt der mitgelieferten Al₂O₃-Eigenschaftstabelle. Informationen zu Si₃N₄-Ringen finden Sie im separaten Si₃N₄-Datenblatt.


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